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全口义齿需缓冲的部位不包括

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    全口义齿(complete denture)、内应力(internal stress)、主要因素(main factors)、主要功能(main function)、大连接体(major connector)、贵金属基、略大于(slightly larger)、外形高点(height of contours)、主要组成部分(main components)、不容易(not easy)

  • [单选题]全口义齿需缓冲的部位不包括

  • A. 上颌硬区
    B. 下颌舌骨嵴部
    C. 后堤区
    D. 颏孔及切牙孔
    E. 锐利的牙槽嵴

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  • 举一反三:
  • [单选题]关于PFM冠金瓷结合机制,不正确的是
  • A. 化学结合力是金瓷结合力的主要组成部分(main components)
    B. 金属一瓷材料的热膨胀系数要严格匹配,金属的热膨胀系数要略小于瓷的热膨胀系数时有利于金瓷结合
    C. 基底冠表面一定的粗糙度对金瓷结合有利
    D. 金瓷结合界面间存在分子间力
    E. 贵金属基底冠烤瓷前需要预氧化

  • [单选题]活动义齿铸造支架的大连接体和塑料部分结合的内外阶台的最佳角度为
  • A. 160°
    B. 145°
    C. 45°
    D. 90°
    E. 135°

  • [单选题]烤瓷熔附金属全冠的遮色瓷厚度应掌握在
  • A. 越薄越好
    B. 越厚越好
    C. 0.1mm
    D. 0.2mm
    E. 0.5mm

  • [单选题]龈沟上皮的组织学特点是
  • A. 单层柱状上皮,无角化,无上皮钉突
    B. 假复层柱状上皮,无角化,有上皮钉突
    C. 复层鳞状上皮,无角化,无上皮钉突
    D. 复层鳞状上皮,有角化,无上皮钉突
    E. 复层鳞状上皮,无角化,有上皮钉突

  • [单选题]龋病是多种因素影响而导致的,下列哪项为主要因素
  • A. 细菌
    B. 牙菌斑
    C. 食物
    D. 牙所处环境
    E. 时间

  • [单选题]活动义齿有关导平面板的设计制作,下列描述中错误的是
  • A. 功能运动时要使邻面板与基牙保持接触,增大摩擦力
    B. 位于远中的邻面板向上不能越过外形高点(height of contours)线
    C. RPI组合卡环不能在近中倾斜的基牙上使用
    D. 牙体导平面预备时,可以保留小的龈区倒凹
    E. 导平面板可以连接稳定牙弓,有助于使孤立牙达到稳定

  • [单选题]小管数量少而弯曲、内含细胞的牙本质是
  • A. 管周牙本质
    B. 管间牙本质
    C. 球间牙本质
    D. 前期牙本质
    E. 骨样牙本质

  • [单选题]烤瓷熔附金属全冠的基底冠厚度至少为
  • A. 0.1mm
    B. 0.3mm
    C. 0.5mm
    D. 1mm
    E. 2mm

  • [单选题]上颌磨牙的主要功能尖是
  • A. 近中颊尖
    B. 近中舌尖
    C. 远中颊尖
    D. 远中舌尖
    E. 第五牙尖

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