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上颌后腭杆的位置是

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  • 【名词&注释】

    牙本质(dentin)、螯合剂(chelating agent)、可摘局部义齿(removable partial denture)、化学性(chemical)、草酸盐(oxalate)、金属烤瓷牙、前磨牙(premolar)、人工牙(artificial tooth)、弱酸性(weak acidic)、酸性水溶液(acidic aqueous)

  • [单选题]上颌后腭杆的位置是

  • A. 第二、三磨牙之间
    B. 第一、二磨牙之间
    C. 第一、二前磨牙(premolar)之前
    D. 第一磨牙处
    E. 第二磨牙处

  • 查看答案&解析
  • 举一反三:
  • [单选题]烤瓷熔附金属全冠的基底冠厚度至少为
  • A. 0.1mm
    B. 0.3mm
    C. 0.5mm
    D. 1mm
    E. 2mm

  • [单选题]与基托的连接方式属于化学性连接的人工牙(artificial tooth)
  • A. 塑料牙
    B. 全金属牙
    C. 全瓷牙
    D. 金属烤瓷牙
    E. 以上都是

  • [单选题]可摘局部义齿分类中的Kennedy分类法,其第2类是指
  • A. 义齿鞍基在两侧,且鞍基前后都有基牙
    B. 单侧游离缺牙
    C. 双侧游离缺牙
    D. 义齿鞍基一侧,且鞍基前后都有基牙
    E. 前部缺牙,基牙在缺隙的远中

  • [单选题]去蜡之前通常将型盒在开水中浸泡,时间为
  • A. 5~10min
    B. 10~15min
    C. 15~20min
    D. 20~25min
    E. 25~30min

  • [单选题]去除牙本质复合层的表面处理中,最好的方法是使用
  • A. 30%~50%磷酸水溶液
    B. 弱酸性(weak acidic)水溶液如10-3溶液,或中性螯合剂如EDTA
    C. 氨基酸水溶液
    D. 5.3%草酸盐水溶液
    E. 以上都是

  • [单选题]烤瓷合金的熔点范围为
  • A. 940~1 140℃
    B. 1 150~1 350℃
    C. 1 400~1 450℃
    D. 1 450~1 500℃
    E. 1 500~1 600℃

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