熟石膏的主要成分是(　　)。

【名词&注释】

可摘局部义齿(removable partial denture)、印模材料(impression materials)、接触电势(contact potential)、范德华力、接触区(contact area)、主要成分(main components)、分子间作用力(intermolecular force)、无水硫酸钙(anhydrous calcium sulphate)、下颌切迹(mandibular notch)、外形高点(height of contours)

[单选题]熟石膏的主要成分是(　　)。

A. 无水硫酸钙^{(anhydrous calcium sulphate)}
B. 二水硫酸钙
C. α-半水硫酸钙
D. β-半水硫酸钙
E. 无水硫酸钙^{(anhydrous calcium sulphate)}和二水硫酸钙

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举一反三：

[单选题]热凝牙托粉中的主要成分为(　　)。

A. 聚甲基丙烯酸甲酯
B. 聚甲基丙烯酸乙酯
C. 甲基丙烯酸甲酯
D. 聚丙烯酸乙酯
E. 聚丙烯酸甲酯

[单选题]磨光时塑料基托表面磨痕难以消除的原因是

A. 塑料硬度过高
B. 塑料硬度过低
C. 磨料颗粒过细
D. 磨料颗粒过粗
E. 塑料基托磨的太亮

[单选题]牙科电焊机的熔焊原理是(　　)。

A. 电阻热熔焊
B. 高频振荡熔焊
C. 红外加热熔焊
D. 化学熔焊
E. 高温熔焊

[单选题]冠核熔模工作前模型处理，以下各项内容正确的是

A. 去除模型根面边缘石膏瘤
B. 观察根管内有无倒凹
C. 去除根管内残余印模材料
D. 于根面及根管内涂布分离剂
E. 以上均是

[单选题]根据缺损范围和部位将上颌骨缺损分为六类，其中1类为(　　)。

A. 1/4上颌骨切除
B. 一侧上颌骨切除
C. 上颌骨中心缺损
D. 上颌骨后部缺损
E. 上颌骨前部缺损

[单选题]下列哪项与粘结力形成无关？(　　)

A. 静电吸引力
B. 压缩力
C. 分子间作用力^{(intermolecular force)}
D. 化学键力
E. 机械力

[单选题]可摘局部义齿基托伸展的范围，下列错误的是

A. 应与天然牙轴面的倒凹区轻轻接触
B. 上颌远中游离者应伸至翼下颌切迹^{(mandibular notch)}，远中颊角应覆盖上颌结节
C. 下颌远中游离者应覆盖磨牙后垫1／3～1／2
D. 缺牙区若骨质缺损应当扩大，若有骨突应适当缩小或作缓冲
E. 缺牙多应适当大些，反之应小些

[单选题]在排列后牙时，决定其人工牙面形态、大小的因素如下，不包括(　　)。

A. 人工牙略小于天然牙
B. 义齿的支持形式
C. 义齿的稳定
D. 牙槽嵴吸收
E. 义齿固位

[单选题]以下的修复体设计，有利于牙周健康的是(　　)。

A. 颊、舌面过突的外形高点^{(height of contours)}
B. 后牙邻面的接触区位于中央沟的颊侧
C. 后牙邻面的接触区位于中央沟的舌侧
D. 宽大的后牙邻面的接触区
E. 以上都不是

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