【名词&注释】
物理性能(physical properties)、碳化硅(silicon carbide)、准确度(accuracy)、螯合剂(chelating agent)、可摘局部义齿(removable partial denture)、就位道(path of removal)、丁香油(clove oil)、部分冠(partial crown)、贵金属基、基托组织面
[单选题]没有覆盖前牙唇面或后牙颊面的部分冠(partial crown)修复体为
A. 嵌体
B. 半冠
C. 烤瓷熔附金属全冠
D. 桩冠
E. 3／4冠
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举一反三：
[单选题]小管数量少而弯曲、内含细胞的牙本质是
A. 管周牙本质
B. 管间牙本质
C. 球间牙本质
D. 前期牙本质
E. 骨样牙本质
[单选题]磨除贵金属基底的金属与瓷结合面氧化物，常用
A. 碳化硅
B. 钨钢钻
C. 橡皮轮
D. 金钢砂针
E. 金钢石钻针
[单选题]关于义齿软衬技术，下列描述正确的是
A. 旧义齿软衬应尽可能采用直接法
B. 间接法软衬比直接法软衬准确度高
C. 间接法软衬材料物理性能优于直接法软衬材料
D. 直接法软衬材料厚度必须大于2mm
E. 间接法软衬材料厚度应小于1mm
[单选题]对于常用水门汀的主要组成，错误的是
A. 氧化锌+丁香油(clove oil)→氧化锌丁香酚水门汀
B. 氧化锌+正磷酸→磷酸锌水门汀
C. 氧化锌+聚丙烯酸→聚羧酸锌水门汀
D. 硅酸铝玻璃粉+正磷酸→玻璃离子水门汀
E. 氢氧化钙+螯合剂→氢氧化钙水门汀
[单选题]冠内附着体基牙牙体预备时，窝洞空间大小与选择的附着体尺寸有关，一般窝洞的颊舌面与邻面洞壁与放置附着体轴壁之间应保留多大间隙，有利于附着体部件放置时调整就位道
A. 0.5mm
B. 1．0mm
C. 1.5mm
D. 2.0mm
E. 2.5mm
[单选题]可摘局部义齿制作中基托组织面不须做缓冲的部位是
A. 上颌硬区
B. 上颌结节颊侧
C. 下颌舌隆凸
D. 内斜嵴
E. 磨牙后垫
[单选题]记存研究模型的修整，基底部分的高约为解剖部分的
A. 1／3～1／2
B. 1／4～1／2
C. 2／3～3／4
D. 1／5～1／3
E. 1／2～3／4
[单选题]在包埋熔模时，以下不正确的是
A. 如采用有圈铸型时，需在金属铸圈的内壁衬垫一层厚度适宜的缓冲材料
B. 包埋前需用蜡将铸圈与铸型底座相接触区域封牢
C. 调好的包埋材料需大量快速地注入铸圈内
D. 包埋材料需用真空调拌机进行调拌
E. 包埋材料需由铸圈底部缓慢上升直至灌满整个铸型
[单选题]可摘局部义齿缺牙数目较多时，应考虑
A. 基托蜡型适当加大
B. 基托蜡型适当减小
C. 不需要制作唇侧基托
D. 基托蜡型适当变薄
E. 基托蜡型适当加厚
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