【名词&注释】
可摘局部义齿(removable partial denture)、印模材料(impression materials)、活动范围(range of motion)、正硅酸乙酯(teos)、体表面积(body surface area)、异物感(foreign body sensation)、超硬石膏、分离剂(separating agent)、下颌切迹(mandibular notch)、性能优越(superior performance)
[单选题]冠核熔模工作前模型处理，以下各项内容正确的是
A. 去除模型根面边缘石膏瘤
B. 观察根管内有无倒凹
C. 去除根管内残余印模材料
D. 于根面及根管内涂布分离剂(separating agent)
E. 以上均是
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举一反三：
[单选题]可摘局部义齿基托伸展的范围，下列错误的是
A. 应与天然牙轴面的倒凹区轻轻接触
B. 上颌远中游离者应伸至翼下颌切迹(mandibular notch)，远中颊角应覆盖上颌结节
C. 下颌远中游离者应覆盖磨牙后垫1／3～1／2
D. 缺牙区若骨质缺损应当扩大，若有骨突应适当缩小或作缓冲
E. 缺牙多应适当大些，反之应小些
[单选题]人造石不如超硬石膏性能优越(superior performance)的主要原因是其( )。
A. 混水率低
B. 晶体纯度高
C. 晶体表面积大
D. 晶体不变形
E. 以上都不是
[单选题]舌腭侧大面积的基托蜡型应作成凹面的目的是
A. 美观
B. 便于打磨抛光
C. 防止蜡型过厚
D. 减轻重量
E. 加大舌的活动范围
[单选题]磷酸盐包埋材料的结合剂是( )。
A. 硬质石膏
B. 正硅酸乙酯
C. 磷酸盐与金属氧化物的混合物
D. 硫酸盐与金属氧化物的混合物
E. 碳酸盐与金属氧化物的混合物
[单选题]根据缺损范围和部位将上颌骨缺损分为六类，其中1类为( )。
A. 1/4上颌骨切除
B. 一侧上颌骨切除
C. 上颌骨中心缺损
D. 上颌骨后部缺损
E. 上颌骨前部缺损
[单选题]在制作义齿支架前进行模型缓冲的原因是
A. 有利于义齿的取出
B. 有利于义齿的移位
C. 增强义齿的固位
D. 改善义齿的稳定性
E. 避免义齿戴入后压痛患者黏膜
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