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义齿基托打磨抛光,下列错误的是

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  • 【名词&注释】

    覆盖义齿(overdenture)、不一致(inconsistency)、缓冲作用(buffer action)、关节盘、热运动(thermal motion)、半透明性(semitransparent)、外形高点(height of contours)

  • [单选题]义齿基托打磨抛光,下列错误的是

  • A. 系带区基托边缘厚度应比其他部分薄
    B. 组织面应适当打磨抛光
    C. 上颌义齿基托后缘应与组织面自然衔接
    D. 基托边缘有一定厚度
    E. 打磨时不应损坏牙龈形态

  • 查看答案&解析
  • 举一反三:
  • [单选题]拍摄TMJ的许氏位X线片的主要目的不是为了了解
  • A. 关节间隙情况
    B. 骨结构表面情况
    C. 关节盘的位置情况
    D. 髁突的运动度
    E. 髁突的位置

  • [单选题]基底冠表面形成尖锐棱角、尖嵴的后果是
  • A. 瓷收缩引起底层冠变形,就位困难
    B. 金-瓷结合界面产生气泡而脱瓷
    C. 局部产生应力集中,使瓷层断裂
    D. 金-瓷界面的热运动不一致而引起瓷裂
    E. 瓷层过薄,影响修复体的颜色层观感和半透明性(semitransparent)

  • [单选题]拔牙后多长时间内不宜漱口
  • A. 24小时
    B. 1~2天
    C. 2~3天
    D. 4~5天
    E. 5~7天

  • [单选题]覆盖义齿中附着体的作用是
  • A. 支持作用
    B. 固位作用
    C. 稳定作用
    D. 缓冲作用
    E. 以上都是

  • [单选题]上颌中切牙唇、舌面的外形高点(height of contours)位于
  • A. 唇面颈1/3与舌面颈1/3
    B. 唇面中1/3与舌面颈1/3
    C. 唇面切1/3与舌面颈1/3
    D. 唇面颈1/3与舌面中1/3
    E. 唇面切1/3与舌面中1/3

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