【名词&注释】
缓冲区(buffer)、全口义齿(complete denture)、印模材料(impression materials)、软组织(soft tissue)、有利于(beneficial to)、分离剂(separating agent)、大连接体(major connector)、边缘封闭区(border seal area)、牙槽嵴顶(alveolar ridge crest)、三臂卡环
[单选题]关于弯制尖牙卡环的要求，错误的是
A. 卡环臂端置于唇面近中，以利用倒凹和利于美观
B. 卡环臂贴靠牙龈缘，有利于美观和固位
C. 卡环臂端绕过轴面角到达邻面
D. 卡环体部要高，以增加环抱力
E. 卡环体部的位置不能影响排牙
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举一反三：
[单选题]全口义齿基托边缘与唇颊沟、舌沟、上颌后堤区及下颌磨牙后垫处相接触的区域属于( )。
A. 主承托区
B. 副承托区
C. 边缘封闭区(border seal area)
D. 缓冲区
E. 翼缘区
[单选题]牙冠的斜面是指
A. 组成嵴的各个面
B. 组成牙尖的各个面
C. 构成轴嵴的各个面
D. 构成边缘嵴的各个面
E. 牙冠上斜形的面
[单选题]1|1缺失，4|4基牙，弯制卡环多采用
A. 间隙卡环
B. 单臂卡环
C. 长臂卡环
D. 对半卡环
E. 三臂卡环
[单选题]隐形义齿卡环的厚度为( )。
A. 0.5～0.8mm
B. 0.8～1.0mm
C. 1.0～1.5mm
D. 1.5～2.0mm
E. 2.0～2.5mm
[单选题]PFM冠上釉时的炉温是
A. 与体瓷的烧结温度相同
B. 低于体瓷烧结温度6～8℃
C. 低于体瓷烧结温度10～20℃
D. 高于体瓷烧结温度6～8℃
E. 高于体瓷烧结温度10～20℃
[单选题]冠核熔模工作前模型处理，以下各项内容正确的是
A. 去除模型根面边缘石膏瘤
B. 观察根管内有无倒凹
C. 去除根管内残余印模材料
D. 于根面及根管内涂布分离剂
E. 以上均是
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