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为获得良好的自洁作用,杆卡式覆盖义齿底部应与黏膜间保持的间隙

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    缓凝剂(retarder)、全口义齿(complete denture)、覆盖义齿(overdenture)、第一前磨牙(first premolar)、第二前磨牙(second premolar)、藻酸盐印模材料(alginate impression material)、从无到有、贵金属基、外形高点(height of contours)、主要组成部分(main components)

  • [单选题]为获得良好的自洁作用,杆卡式覆盖义齿底部应与黏膜间保持的间隙是

  • A. 2mm
    B. 3mm
    C. 1.5mm
    D. 2.5mm
    E. 杆与黏膜紧密接触

  • 查看答案&解析
  • 举一反三:
  • [单选题]活动义齿有关导平面板的设计制作,下列描述中错误的是
  • A. 功能运动时要使邻面板与基牙保持接触,增大摩擦力
    B. 位于远中的邻面板向上不能越过外形高点(height of contours)线
    C. RPI组合卡环不能在近中倾斜的基牙上使用
    D. 牙体导平面预备时,可以保留小的龈区倒凹
    E. 导平面板可以连接稳定牙弓,有助于使孤立牙达到稳定

  • [单选题]牙釉质中有机成分占总重量的
  • A. 3%
    B. 97%
    C. 70%
    D. 30%
    E. 45%~50%

  • [单选题]关于PFM冠金瓷结合机制,不正确的是
  • A. 化学结合力是金瓷结合力的主要组成部分(main components)
    B. 金属一瓷材料的热膨胀系数要严格匹配,金属的热膨胀系数要略小于瓷的热膨胀系数时有利于金瓷结合
    C. 基底冠表面一定的粗糙度对金瓷结合有利
    D. 金瓷结合界面间存在分子间力
    E. 贵金属基底冠烤瓷前需要预氧化

  • [单选题]3/4冠邻沟预备的目的是
  • A. 增加3/4冠的厚度
    B. 增加3/4冠的强度
    C. 防止3/4冠舌向脱位
    D. 保证与邻牙接触紧密
    E. 有利于冠就位

  • [单选题]隐形义齿戴牙后固位不良,可能原因如下,除外
  • A. 患者基牙过短
    B. 戴牙时调磨过多
    C. 义齿变形
    D. 基牙倒凹过大
    E. 义齿卡环部分过薄

  • [单选题]关于牙演化特点的说法,错误的是
  • A. 牙数由多变少
    B. 牙根从无到有
    C. 牙列从多牙列向双牙列演变
    D. 牙形从异形牙向同形牙演变
    E. 牙的生长部位从分散到集中

  • [单选题]全口义齿需缓冲的部位不包括
  • A. 上颌硬区
    B. 下颌舌骨嵴部
    C. 后堤区
    D. 颏孔及切牙孔
    E. 锐利的牙槽嵴

  • [单选题]粉剂型藻酸盐印模材料中,属于缓凝剂的是
  • A. 硫酸钙
    B. 氧化锌
    C. 磷酸钠
    D. 硅藻土
    E. 氟钛酸钾

  • [单选题]横嵴主要见于
  • A. 上颌第一前磨牙
    B. 下颌第一前磨牙
    C. 上颌第二前磨牙
    D. 下颌第二前磨牙
    E. 下颌第一磨牙

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