有远中邻面板的卡环形式是

【名词&注释】

接触电势(contact potential)、范德华力、硅橡胶印模材料、分子间作用力(intermolecular force)、琼脂印模材料(agar impression material)、全口义齿固位(retention of complete denture)、藻酸盐印模材料(alginate impression material)、印模膏(impression paste)、牙槽嵴顶(alveolar ridge crest)、静电吸引力

[单选题]有远中邻面板的卡环形式是

A. RPA
B. RII
C. 正型卡环
D. 箭头卡环
E. 对半卡环

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举一反三：

[单选题]不利于全口义齿固位的解剖形态是

A. 腭顶较高
B. 牙槽嵴丰满
C. 牙弓宽大
D. 黏膜厚度适中
E. 唇颊系带附丽接近牙槽嵴顶^{(alveolar ridge crest)}

[单选题]根据缺损范围和部位将上颌骨缺损分为六类，其中1类为(　　)。

A. 1/4上颌骨切除
B. 一侧上颌骨切除
C. 上颌骨中心缺损
D. 上颌骨后部缺损
E. 上颌骨前部缺损

[单选题]在临床中可作为复制模型的印模材料是(　　)。

A. 印模石膏
B. 琼脂印模材料
C. 硅橡胶印模材料
D. 印模膏^{(impression paste)}
E. 藻酸盐印模材料^{(alginate impression material)}

[单选题]下列哪项与粘结力形成无关？(　　)

A. 静电吸引力
B. 压缩力
C. 分子间作用力
D. 化学键力
E. 机械力

[单选题]牙列缺失后，口腔软组织未发生改变的部位是

A. 唇颊系带与牙槽嵴顶^{(alveolar ridge crest)}的距离变短
B. 唇颊沟变浅
C. 舌沟间隙变浅
D. 切牙乳头向牙槽嵴顶^{(alveolar ridge crest)}位移
E. 鼻唇沟加深

[单选题]对Ⅱ型观测线的基牙，描述正确的是

A. 近缺隙侧倒凹区小，远离缺隙侧倒凹区大
B. 近缺隙侧倒凹区小，远离缺隙侧倒凹区也小
C. 近缺隙侧倒凹区大，远离缺隙侧倒凹区小
D. 近缺隙侧倒凹区大，远离缺隙侧倒凹也大
E. 近缺隙侧与远离缺隙侧均无倒凹区

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