
【名词&注释】
均匀分布、基本特征(basic characteristics)、可摘局部义齿(removable partial denture)、成釉细胞(ameloblast)、釉基质蛋白(enamel matrix proteins)、活动范围(range of motion)、主要成分(main components)、下颌切迹(mandibular notch)、外形高点(height of contours)、内源性金属蛋白酶(endogenous metalloproteinase)
[单选题]决定基牙观测线位置的是
A. 牙长轴
B. 外形高点(height of contours)线
C. 导线
D. 支点线
E. 就位道
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举一反三:
[单选题]舌腭侧大面积的基托蜡型应作成凹面的目的是
A. 美观
B. 便于打磨抛光
C. 防止蜡型过厚
D. 减轻重量
E. 加大舌的活动范围
[单选题]可摘局部义齿基托伸展的范围,下列错误的是
A. 应与天然牙轴面的倒凹区轻轻接触
B. 上颌远中游离者应伸至翼下颌切迹(mandibular notch),远中颊角应覆盖上颌结节
C. 下颌远中游离者应覆盖磨牙后垫1/3~1/2
D. 缺牙区若骨质缺损应当扩大,若有骨突应适当缩小或作缓冲
E. 缺牙多应适当大些,反之应小些
[单选题]在制作义齿支架前进行模型缓冲的原因是
A. 有利于义齿的取出
B. 有利于义齿的移位
C. 增强义齿的固位
D. 改善义齿的稳定性
E. 避免义齿戴入后压痛患者黏膜
[单选题]主要存在于釉质分泌期的釉基质蛋白是
A. 釉原蛋白
B. 釉蛋白
C. 鞘蛋白
D. 内源性金属蛋白酶(endogenous metalloproteinase)
E. 丝蛋白酶
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