牙隐裂最好发于

【名词&注释】

纵断面(profile)、牙周膜(periodontal ligament)、牙隐裂(cracked-teeth)、牙釉质(enamel)、模型材料(model material)、石膏粉(gesso)、下颌前磨牙(mandibular premolar)、结合上皮(junctional epithelium)、缩余釉上皮、附着龈(attached gingiva)

[单选题]牙隐裂最好发于

A. 上颌第一磨牙
B. 上颌第二磨牙
C. 下颌第一磨牙
D. 下颌第二磨牙
E. 上下颌前磨牙^{(mandibular premolar)}

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举一反三：

[单选题]缩余釉上皮可形成

A. 结合上皮^{(junctional epithelium)}
B. 龈沟上皮
C. 附着龈^{(attached gingiva)}
D. 牙周膜
E. 牙釉质

[单选题]关于釉柱的描述，不正确的是

A. 釉柱直径深部较表面大
B. 釉柱是由扁六棱柱形晶体构成
C. 在釉柱头部晶体长轴平行于釉柱长轴
D. 光镜下釉柱的横断面呈鱼鳞状
E. 釉柱的纵断面可见有规律间隔的横纹

[单选题]调拌模型材料时，普通石膏水粉比例为100g石膏粉加水

A. 45～50ml
B. 30～35ml
C. 20～25ml
D. 95～100ml
E. 15～20ml

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