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磨除贵金属基底的金属与瓷结合面氧化物,常用

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  • 【名词&注释】

    碳化硅(silicon carbide)、中国人(chinese)、就位道(path of removal)、有利于(beneficial to)、下颌后退接触位(retruded contact position)、牙尖交错位、贵金属基

  • [单选题]磨除贵金属基底的金属与瓷结合面氧化物,常用

  • A. 碳化硅
    B. 钨钢钻
    C. 橡皮轮
    D. 金钢砂针
    E. 金钢石钻针

  • 查看答案&解析
  • 举一反三:
  • [单选题]冠内附着体基牙牙体预备时,窝洞空间大小与选择的附着体尺寸有关,一般窝洞的颊舌面与邻面洞壁与放置附着体轴壁之间应保留多大间隙,有利于附着体部件放置时调整就位道
  • A. 0.5mm
    B. 1.0mm
    C. 1.5mm
    D. 2.0mm
    E. 2.5mm

  • [单选题]中国人调查牙尖交错位与下颌后退接触位不是同一位的有
  • A. 12%
    B. 8%
    C. 88%
    D. 50%
    E. 92%

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