全口义齿需缓冲的部位不包括

【名词&注释】

全口义齿(complete denture)、就位道(path of removal)、放热反应(exothermic reaction)、热运动(thermal motion)、成釉器(enamel organ)、半透明性(semitransparent)、水门汀(luting cement)、从无到有、蕾状期、外形高点(height of contours)

[单选题]全口义齿需缓冲的部位不包括

A. 上颌硬区
B. 下颌舌骨嵴部
C. 后堤区
D. 颏孔及切牙孔
E. 锐利的牙槽嵴

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举一反三：

[单选题]关于牙演化特点的说法，错误的是

A. 牙数由多变少
B. 牙根从无到有
C. 牙列从多牙列向双牙列演变
D. 牙形从异形牙向同形牙演变
E. 牙的生长部位从分散到集中

[单选题]模型底座厚薄适宜，一般腭顶和口底，的最薄处应保持

A. 3～5mm
B. 1～2mm
C. 5～10mm
D. 10～20mm
E. 30mm

[单选题]遮色瓷厚度应掌握在

A. 1～2mm
B. 1～0．2mm
C. 2～0．3mm
D. 2～3mm
E. 越薄越好

[单选题]牙胚是由

A. 口腔外胚层、外胚间质、口腔内胚层等三部分组成
B. 成釉器、牙乳头、牙囊等三部分组成
C. 蕾状期、帽状期、钟状期等三部分组成
D. 牙釉期、牙本质、牙骨质等三部分组成
E. 以上均不正确

[单选题]以下水门汀^{(luting cement)}的固化为放热反应的是

A. 氧化锌丁香酚水门汀^{(luting cement)}
B. 磷酸锌水门汀^{(luting cement)}
C. 聚羧酸锌水门汀^{(luting cement)}
D. 氢氧化钙水门汀^{(luting cement)}
E. 玻璃离子水门汀^{(luting cement)}

[单选题]模型灌注后适宜的脱模时间为

A. 1～2小时
B. 2～4小时
C. 6～8小时
D. 12小时
E. 24小时

[单选题]决定基牙观测线位置的是

A. 牙长轴
B. 外形高点^{(height of contours)}线
C. 导线
D. 支点线
E. 就位道

[单选题]基底冠表面形成尖锐棱角、尖嵴的后果是

A. 瓷收缩引起底层冠变形，就位困难
B. 金-瓷结合界面产生气泡而脱瓷
C. 局部产生应力集中，使瓷层断裂
D. 金-瓷界面的热运动不一致而引起瓷裂
E. 瓷层过薄，影响修复体的颜色层观感和半透明性

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